到達目標
①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解できる。
②商標登録制度、不正競争防止法、著作権法、条約の重要事項を正確に理解できる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
| ①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解
できる。
| 各授業項目の内容を理解し、応用できる。 | 各授業項目の内容を理解している。 | 各授業項目の内容を理解していない。 |
| ②商標登録制度、不正競争防止法
、著作権法、条約の重要事項を正
確に理解できる。
| 各授業項目の内容を理解し、応用できる | 各授業項目の内容を理解している。 | 各授業項目の内容を理解していない。 |
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学科の到達目標項目との関係
学習・教育到達度目標 (D)
説明
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学習・教育到達度目標 (E)
説明
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教育方法等
概要:
技術者及び研究者として必要な知的財産権制度の知識を得るため、その概要について解説する。
この科目は、民間企業、大学や社会で活躍してきた弁理士が、その経験と今までの知財啓発のノウハウを活かして講義を行う。
授業の進め方・方法:
知的財産権の全体像とその制度について法域ごとに説明し、さらには権利の活用に関する実務について解説する。
この科目は集中講義を予定している。
注意点:
授業における講義内容を重視すること。
期末試験を実施する。試験を100％として評価し、60点以上を合格とする。
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
| 前期 |
| 1stQ |
| 1週 |
知的財産制度の意味と経済学 |
経済発展と知的財産制度の関係を歴史的にとらえ、経済学的になぜ
知的財産制度が必要か理解する。
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| 2週 |
知的財産制度の法体系 |
民法の体系における知的財産制度の意味を理解する。
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| 3週 |
特許と実用新案 |
特許権と実用新案権の違いを、その効力を中心に理解する。
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| 4週 |
特許出願における審査主義 |
審査請求制度や特許庁における審査の内容を理解する。
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| 5週 |
特許明細書等の読み方と論文 |
J-Platpatの検索方法を学び、特許明細書等をどのように読むのか理解する。
更に、学術論文の書き方と特許の書類がどのように違うのかを理解する。
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| 6週 |
発明の仕方と、特許明細書等の書き方 |
「発明は蓋然の先見である」という意味を理解し、どのように発明し、どのように特許を描くのか、その基本を理解する。
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| 7週 |
意匠登録制度と出願審査 |
意匠登録制度と出願審査の内容、保護される意匠、意匠権の効力
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| 8週 |
ブランドと商標の関係、商標登録制度 |
ブランドと商標の違いを理解し、マーケティングの中でいかなる
ブランド戦略を採用するかを考える
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| 2ndQ |
| 9週 |
ノウハウの保護と事業収益の達成 |
オープン・アンド・クローズ戦略やノウハウのタイムスタンプを理解する。
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| 10週 |
その他の知的財産権 |
著作権や不正競争防止法等関連法を理解する
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| 11週 |
知的財産権侵害 |
特許庁と裁判所の判断は異なることを理解し、均等論について学ぶ
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| 12週 |
国際的知的財産制度 |
特許独立の原則とパリ条約の意味を理解し、グローバルな知的財産権戦略を理解する
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| 13週 |
企業の知的資産経営 |
機会主義の狡猾さと、知的財産権の手段として位置付けを理解し、経営における付加価値をどのように増大するのかを考える
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| 14週 |
今後の知的財産権 |
AI時代における今後の知的財産権の動向を考える
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| 15週 |
特許戦略の補足その他 |
特許制度を利用した動的な特許戦略を説明し、最後に質疑応答とレポートの説明の時間を設ける
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| 16週 |
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| 後期 |
| 3rdQ |
| 1週 |
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| 2週 |
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| 3週 |
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| 4週 |
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| 5週 |
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| 6週 |
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| 7週 |
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| 8週 |
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| 4thQ |
| 9週 |
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| 10週 |
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| 11週 |
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| 12週 |
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| 13週 |
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| 14週 |
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| 15週 |
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| 16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
| 分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 試験 | 課題 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
| 総合評価割合 | 100 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 基礎的能力 | 100 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |