Course Objectives
(1)特許の概要と重要性が理解でき、簡単な特許検索ができる。
(2)与えられた課題に対して、解決する方法を提示することができる。
(3)制御装置の基礎知識を理解し、マイコンなどを用いて簡単な装置が作製できる。
Rubric
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
| 評価項目1 | 特許の概要と重要性が理解でき、高度な特許検索ができる。 | 特許の概要と重要性が理解でき、簡単な特許検索ができる。 | 特許の概要と重要性が理解でき、簡単な特許検索ができない。 |
| 評価項目2 | 与えられた課題に対して、解決する方法を提示し、合理的にプロジェクトを勧めることができる。 | 与えられた課題に対して、解決する方法を提示することができる。 | 与えられた課題に対して、解決する方法を提示することができない。 |
| 評価項目3 | 制御装置の基礎知識を理解し、マイコンなどを用いて高度な装置が作製できる。 | 制御装置の基礎知識を理解し、マイコンなどを用いて簡単な装置が作製できる。 | 制御装置の基礎知識を理解し、マイコンなどを用いて簡単な装置が作製できない。 |
Assigned Department Objectives
Teaching Method
Outline:
これまで身に付けてきた基礎知識を活用し実際に提示された問題について解決すべき課題を発見し、能力を身に付けた能力を活用し実際に問題を解決する簡単な装置を作製することを目的とする。また、知的財産がなにか、過去の英知の積み重ねである特許検索を通じてどのような問題解決がなされていて、それをどのように活用しているかを特許検索を通じて学ぶ。
また、工学的に必要な電子顕微鏡や制御系の装置について知識を習得する
Style:
特許検索についてはクラス単位でおこなう。
創造制作実験と、シーケンス実習についてはクラスを前半、後半の2班に分け、3～5週は前半が創造制作実験、後半がシーケンス実習を行い、10～15週はこれを入れ替えておこなう。
Notice:
Course Plan
|
|
|
Theme |
Goals |
| 2nd Semester |
| 3rd Quarter |
| 1st |
全体説明／特許検索 |
システム工学実験Ⅱの全体目的と流れを説明する。
|
| 2nd |
特許検索 |
|
| 3rd |
創造製作実験 |
|
| 4th |
創造製作実験 |
|
| 5th |
創造製作実験 |
|
| 6th |
創造製作実験 |
|
| 7th |
創造製作実験 |
|
| 8th |
創造製作実験 |
|
| 4th Quarter |
| 9th |
中間試験 |
|
| 10th |
シーケンス実習 |
|
| 11th |
シーケンス実習 |
|
| 12th |
シーケンス実習 |
|
| 13th |
シーケンス実習 |
|
| 14th |
シーケンス実習 |
|
| 15th |
シーケンス実習 |
|
| 16th |
レポート確認、アンケート |
|
Evaluation Method and Weight (%)
| 試験 | 発表 | 提出物 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | Total |
| Subtotal | 0 | 0 | 100 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 基礎的能力 | 0 | 0 | 100 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |