到達目標
1.特別研究のための周辺知識を修得すること。
2.特別研究のための専門知識を修得すること。
3.特別研究論文作成および発表するための知識を修得すること。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
評価項目1 | 特別研究のための周辺知識を修得できる | 特別研究のための基本的な周辺知識を修得できる | 特別研究のための基本的な周辺知識を修得できない |
評価項目2 | 特別研究のための専門知識を修得できる | 特別研究のための基本的な専門知識を修得できる | 特別研究のための基本的な専門知識を修得 |
評価項目3 | | | |
学科の到達目標項目との関係
ディプロマポリシー DP3 〇
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ディプロマポリシー DP5 ◎
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地域志向 〇
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教育方法等
概要:
特別研究のための専門知識を学習すると同時に、研究の周辺知識の習得も行うことを目標として、各研究室に分かれて関連する外国語の論文や学術書を講読する。また、講読内容をまとめ、担当教員に対して報告、それに対する指導を受けることにより、英文の読解力や論文作成能力、プレゼンテーション能力の向上を目指す。
授業の進め方・方法:
各研究室に分かれて担当教員の指導のもとに研修する。
注意点:
各担当教員の指示に従う。
授業の属性・履修上の区分
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
新規酸化物系電極材料の合成と評価に関する研修 |
新規酸化物系電極材料の合成と評価に関する基本的な周辺知識を修得できる
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2週 |
新規酸化物系電極材料の合成と評価に関する研修 |
新規酸化物系電極材料の合成と評価に関する研修に関する基本的な周辺知識を修得できる
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3週 |
銅微細回路製造プロセスにおける固-液系反応に関する研究 |
銅微細回路製造プロセスにおける固-液系反応に関する基本的な周辺知識を修得できる
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4週 |
銅微細回路製造プロセスにおける固-液系反応に関する研修 |
銅微細回路製造プロセスにおける固-液系反応に関する基本的な周辺知識を修得できる
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5週 |
光合成の人工利用、炭素材料に関する研修 |
光合成の人工利用、炭素材料に関する基本的な周辺知識を修得できる
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6週 |
精密重合に関する研修 |
精密重合に関する基本的な周辺知識を修得できる
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7週 |
超臨界流体の高度利用に関する研修 |
超臨界流体の高度利用に関する基本的な周辺知識を修得できる
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8週 |
食品機能性に関する研修 |
食品機能性に関する基本的な周辺知識を修得できる
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2ndQ |
9週 |
金属イオンの溶液内反応に関する研修 |
金属イオンの溶液内反応に関する基本的な周辺知識を修得できる
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10週 |
溶融金属中の物質移動速度論に関する研修 |
溶融金属中の物質移動速度論に関する基本的な周辺知識を修得できる
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11週 |
ポリマーアロイを用いた構造制御に関する研修 |
ポリマーアロイを用いた構造制御に関する基本的な周辺知識を修得できる
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12週 |
有機分子を認識する機能性ホスト分子を用いた機能性高分子膜に関する研修 |
有機分子を認識する機能性ホスト分子を用いた機能性高分子膜に関する基本的な周辺知識を修得できる
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13週 |
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14週 |
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15週 |
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16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 各担当教員の講義や演習に対する理解度 | 発表 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 100 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
基礎的能力 | 100 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |