到達目標
産業に寄与できる工業技術を学ぶ視点から、知的財産権を理解し、自ら今後に役立てる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
評価項目1
知財・特許・広報の関連事項 | 論理的に説明できる。 | 理解できる。 | 理解が不足している。 |
評価項目2
発明の捉え方と書き方 | 論理的に説明できる。 | 理解できる。 | 理解が不足している。 |
評価項目3
著作権・不正競争防止法 | 論理的に説明できる。 | 理解できる。 | 理解が不足している。 |
学科の到達目標項目との関係
学習・教育到達度目標 3 社会的課題の解決に向けて自ら考え取り組むための高いエンジニアリングデザイン能力を身に付けること。
JABEE B2 技術が社会と自然に及ぼす影響・効果を理解し、技術者として責任を持って行動できる能力
教育方法等
概要:
この科目は特許商標事務所で知的財産の権利化・調査・保護に関する業務を担当している教員が、その経験を活かし、知的財産に関して講義形式で授業を行うものである。
工業系高等専門学校における知財の活用能力を発展させ、知的想像力の育成、ものつくり活動や専門分野の技術・技能習得を通じて、工夫改善、知的財産権への意欲・関心を高めていく。また、ものつくりにおけるアイデアや思いつきを、具体的な知的財産権に結び付けるトレーニングを行う。
授業の進め方・方法:
講義と演習を組み合わせて行う。
予習:毎回の授業前までに、授業で行う内容と意義を 考えて整理しておくこと。
復習:毎回の授業後に、授業で学んだことを振り返り、今後へ活かす方法を考えること。
注意点:
知的財産権が、産業上どれだけ重要な位置を占めているかを理解する。また、日頃の「ものつくり」に関する授業において見出される発明を、具体的な知的財産権として出願する体験を試みる。
書名:産業財産権標準テキスト:総合編、特許編 編集:(独)工業所有権情報 発行所:研修館
書名:知的財産教育教本 発行所:山口大学(H22発行)
書名:書いてみよう特許明細書出してみよう特許出願 編集:(独)工業所有権情報 発行所:研修館
書名:特許電子図書館サービス利用マニュアル 編集:(独)工業所有権情報 発行所:研修館
授業の属性・履修上の区分
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
ガイダンス |
知的財産について、必要性を理解する。
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2週 |
知的財産の概要 |
知的財産の歴史、知的財産制度の概要を理解できる。
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3週 |
特許の概要 |
特許要件、特許出願から権利化までを理解できる。
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4週 |
公報の読み方 |
先行技術を読む必要性・有効性、請求項の読み方・請求項の種類・解釈の仕方を理解できる。
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5週 |
発明の捉え方 |
発明の一般的な流れ、先行技術の有効性、事例、発明の展開例を理解できる。
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6週 |
発明の書き方(1) |
書く際における先行技術の必要性・有効性 IPDLの検索体系、分類記号とテキストによる検索を理解できる。
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7週 |
発明の書き方(2) |
書く際(実際はチェックする際)の留意事項を理解できる。
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8週 |
著作権・不正競争防止法 |
著作権・不正競争防止法に関する一般的知識を理解できる。
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2ndQ |
9週 |
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10週 |
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11週 |
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12週 |
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13週 |
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14週 |
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15週 |
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16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 演習 | レポート | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 50 | 50 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
基礎的能力 | 20 | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 40 |
専門的能力 | 20 | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 40 |
分野横断的能力 | 10 | 10 | 0 | 0 | 0 | 0 | 20 |