到達目標
産業に寄与できる工業技術を学ぶ視点から、知的財産権を理解し、自ら今後に役立てる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
| 評価項目1 知財・特許・公報の関連事項 | 論理的に説明できる。 | 理解できる。 | 理解が不足している。 |
| 評価項目2 発明の捉え方と書き方 | 論理的に説明できる。 | 理解できる。 | 理解が不足している。 |
| 評価項目3 著作権・不正競争防止法 | 論理的に説明できる。 | 理解できる。 | 理解が不足している。 |
学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
この講義を通じて、知的財産制度のルールを活用できる研究者・開発者につながる基盤づくりを行う。
講義では、知的財産制度全体を概説し、どのような制度があるか、また日本の現状などを理解してもらう。
また、学生が今後、研究活動を行うに際して関わる知的財産法上の問題について理解してもらう。例えば、研究発表等、研究成果を公開することと知的財産制度の関連や、知的財産権の帰属や活用について理解してもらう。さらには、特許出願から権利化までの手続き、発明のとらえ方、明細書の書き方等を説明し、知的財産権の実際の活用事例についても認識させる。
授業の進め方・方法:
原則として、講師が用意したテキストを説明する形式で授業を進める。
また、必要に応じて講義中に、J-PlatPatなどの知的財産情報に関する外部データベースにインターネットを介して利用し、実際の特許情報検索の方法について説明する。
演習、レポートでは、発明を捉えさせ、その発明に関連する先行技術文献調査を行わせる。
なお、法律の解釈論などは講義に盛り込まない。
事前学習 取り扱う法律の目的について確認する。
事後学習 課題・小テストについて検討し、提出する。
注意点:
小テスト・小演習で成績を評価する。
授業の属性・履修上の区分
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
| 後期 |
| 3rdQ |
| 1週 |
ガイダンス |
知的財産について必要性を理解する
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| 2週 |
特許制度の概要（１） |
特許要件の概要、特許出願から権利化までを理解できる
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| 3週 |
特許制度の概要（２） |
特許要件の具体的な内容、権利の効力、外国出願を理解できる
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| 4週 |
先行技術調査 |
先行技術調査の必要性、J-PlatPatを利用した調査のやり方を理解できる
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| 5週 |
実用新案制度・意匠制度・商標制度の概要 |
実用新案制度・意匠制度・商標制度の概要、特許制度の相違を理解できる
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| 6週 |
研究活動と知的財産（１） |
秘密情報管理、共同研究開発の注意点について理解できる
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| 7週 |
研究活動と知的財産（２） |
特定技術分野における知的財産について理解できる
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| 8週 |
著作権・不正競争防止法 |
著作権・不正競争防止法に関する一般的知識を理解できる
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| 4thQ |
| 9週 |
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| 10週 |
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| 11週 |
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| 12週 |
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| 13週 |
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| 14週 |
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| 15週 |
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| 16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
| 分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
| 基礎的能力 | 工学基礎 | 技術者倫理(知的財産、法令順守、持続可能性を含む)および技術史 | 技術者倫理(知的財産、法令順守、持続可能性を含む)および技術史 | 知的財産の社会的意義や重要性の観点から、知的財産に関する基本的な事項を説明できる。 | 3 | 後1,後2,後3,後4,後5 |
| 知的財産の獲得などで必要な新規アイデアを生み出す技法などについて説明できる。 | 3 | 後6,後7,後8 |
評価割合
| テスト | 演習（レポート内） | 合計 |
| 総合評価割合 | 80 | 20 | 100 |
| 基礎的能力 | 80 | 20 | 100 |