到達目標
①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解できる。
②商標登録制度、不正競争防止法、著作権法、条約の重要事項を正確に理解できる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
| ①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解
できる。
| 各授業項目の内容を理解し、応用できる。 | 各授業項目の内容を理解している
。
| 各授業項目の内容を理解していない。 |
| ②商標登録制度、不正競争防止法
、著作権法、条約の重要事項を正
確に理解できる。
| 各授業項目の内容を理解し、応用できる。 | 各授業項目の内容を理解している
。
| 各授業項目の内容を理解していない。 |
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学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
技術者及び研究者として必要な知的財産権制度の知識を得るため、その概要について解説する。
この科目は、民間企業や大学で活躍してきた弁理士が、その経験と今までの知財啓発のノウハウを活かして講義を行う。
授業の進め方・方法:
知的財産権の全体像とその制度について法域ごとに説明し、さらには権利の活用に関する実務について解説する。
講義を基本としながら一部グループディスカッションを組み入れる。定期試験のほか小テストや課題提出を義務付ける。
中間試験は50分間の試験を実施する。期末試験は50分間の試験を実施する。
定期試験の成績を80％、小テストや課題の総点を20％として総合的に評価し、60点以上を合格とする。
注意点:
授業における講義内容を重視すること。
授業の属性・履修上の区分
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
| 前期 |
| 1stQ |
| 1週 |
知的財産権制度 |
知的財産権制度の体系とその仕組み、各権利の概要
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| 2週 |
特許法・実用新案法１ |
特許法の目的と保護対象、特許要件
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| 3週 |
特許法・実用新案法２ |
特許出願とその後の手続き
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| 4週 |
特許法・実用新案法３ |
特許権の管理と活用、特許権の侵害と救済、実用新案制度
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| 5週 |
意匠法１ |
意匠法の保護対象と登録要件、意匠登録出願の手続き
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| 6週 |
意匠法２ |
意匠権の取得と活用、意匠権の侵害と救済
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| 7週 |
中間試験 |
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| 8週 |
商標法１ |
商標法の保護対象と登録要件
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| 2ndQ |
| 9週 |
商標法２ |
商標登録出願の手続き、商標権の取得と活用
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| 10週 |
商標法３・国際的枠組み |
商標権の侵害と救済、パリ条約、国際出願制度
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| 11週 |
著作権法１ |
著作物、著作者人格権と著作（財産）権
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| 12週 |
著作権法２ |
著作権の制限、著作権の侵害と救済
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| 13週 |
著作権法３・肖像権等 |
著作隣接権、肖像権、パブリシティ権
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| 14週 |
その他の知的財産権制度 |
不正競争防止法、種苗法、地理的表示
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| 15週 |
知的財産権の複合化 |
複数の知的財産権の組合せとその活用
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| 16週 |
知的財産権のこれから |
知的財産権を取り巻く課題と今後の行方
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
| 分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
| 基礎的能力 | 工学基礎 | 技術者倫理(知的財産、法令順守、持続可能性を含む)および技術史 | 技術者倫理(知的財産、法令順守、持続可能性を含む)および技術史 | 知的財産の社会的意義や重要性の観点から、知的財産に関する基本的な事項を説明できる。 | 3 | |
| 知的財産の獲得などで必要な新規アイデアを生み出す技法などについて説明できる。 | 3 | |
評価割合
| 試験 | 課題等 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
| 総合評価割合 | 80 | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 基礎的能力 | 80 | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |