到達目標
①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解できる。
②商標登録制度、不正競争防止法、著作権法、条約の重要事項を正確に理解できる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
評価項目1 | | | |
評価項目2 | | | |
評価項目3 | | | |
学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
技術者及び研究者として必要な知的財産権制度の知識を得るため、その概要について解説する。
授業の進め方・方法:
注意点:
授業における講義内容を重視すること。
定期試験の成績を80%、小テストや課題の総点を20%として総合的に評価し、60点以上を合格とする。
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
知的財産権制度 |
産業活動と知的財産権制度、知的財産権制度の体系と仕組み
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2週 |
特許、実用新案 |
特許、実用新案制度と保護される発明・考案
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3週 |
特許出願 |
特許出願と実用新案登録出願
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4週 |
出願審査制度 |
出願審査制度の仕組みと特許権・実用新案権の効力
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5週 |
意匠登録制度 |
意匠登録制度と保護される意匠、意匠権の効力
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6週 |
商標登録制度 |
商標登録制度と保護される商標、商標権の効力
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7週 |
前期中間試験 |
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8週 |
意匠、商標の出願審査 |
意匠、商標の出願審査制度の仕組み
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2ndQ |
9週 |
その他の知的財産権1 |
その他の知的財産権制度1 著作権
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10週 |
その他の知的財産権2 |
その他の知的財産権制度2 不正競争防止法の保護、他の法律保護
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11週 |
知的財産権侵害 |
知的財産権侵害の訴訟
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12週 |
知的財産権の有効性 |
国際的知的財産権制度
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13週 |
国際的知的財産権制 |
国際的知的財産権制度
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14週 |
企業の知的財産権 |
企業における知的財産権、ライセンス
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15週 |
今後の知的財産権 |
今後の知的財産権制度の動向と資格制度、特許マップの作成と活用
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16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 試験 | 発表 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
基礎的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |