到達目標
①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解できる。
②商標登録制度、不正競争防止法、著作権法、条約の重要事項を正確に理解できる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
①特許制度、実用新案制度、意匠登録制度の重要事項を正確に理解できる。
| 各授業項目の内容を理解し、応用できる。 | 各授業項目の内容を理解している。 | 各授業項目の内容を理解していない。 |
②商標登録制度、不正競争防止法、著作権法、条約の重要事項を正確に理解できる。
| 各授業項目の内容を理解し、応用できる | 各授業項目の内容を理解している。 | 各授業項目の内容を理解していない。 |
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学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
技術者及び研究者として必要な知的財産権制度の知識を得るため、その概要について解説する。
この科目は、民間企業の法務関係従事者が、その経験とノウハウを活かして講義を行う。
授業の進め方・方法:
知的財産権の全体像とその制度について法域ごとに説明し、さらには権利の活用に関する実務について解説する。
講義を基本とするが、一部グループディスカッションと発表を実施する。定期試験のほか小テストや課題提出を義務付ける。
注意点:
授業における講義内容を重視すること。
定期試験の成績を80%、小テストや課題の総点を20%として総合的に評価し、60点以上を合格とする。
授業の属性・履修上の区分
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
イントロダクション
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知的財産権制度の概略と知的財産法
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2週 |
特許法1
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発明該当性と特許要件
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3週 |
特許法2
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発明者の認定と職務発明
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4週 |
特許法3
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出願から権利化の諸手続き
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5週 |
特許法4
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権利の活用(通常実施権と専用実施権)
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6週 |
特許法5
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特許権侵害と侵害主張に対する抗弁
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7週 |
前期中間試験
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8週 |
著作権法1
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著作権とは何か、様々な著作物の種類、著作者
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2ndQ |
9週 |
著作権法2
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著作権の内容と保護期間、著作権制限、著作者人格権
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10週 |
意匠法1
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意匠制度概論、物品、建築物、画像の意匠
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11週 |
意匠法2
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意匠登録要件と出願から権利化の諸手続き
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12週 |
商標法
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商標法の概要、商標権侵害主張に対する対抗措置、不正競争防止法による保護
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13週 |
不正競争防止法
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不正競争防止法の目的、特徴、概要 営業秘密
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14週 |
知的財産権の国際的枠組み
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PCT出願、パリルート等、知的財産権の国際的な枠組みの概略
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15週 |
知的財産戦略
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昨今の企業における知的財産戦略の取組み
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16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 試験 | 課題 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 80 | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
基礎的能力 | 80 | 20 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |