到達目標
測定機器の原理や特徴を理解すること。素材を評価するための適切な解析法を選定できること。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
| 評価項目1 | 測定機器の基本原理や特徴をよく理解できる | 測定機器の基本原理や特徴を理解できる | 測定機器の基本原理や特徴を理解できない |
| 評価項目2 | 評価するための解析法を的確に選定できる | 評価するための解析法を選定できる | 評価するための解析法を選定できない |
| 評価項目3 | | | |
学科の到達目標項目との関係
JABEE (c)
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JABEE (d)
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JABEE (e)
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学習・教育目標 C14
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学習・教育目標 C4
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学習・教育目標 C6
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教育方法等
概要:
電子材料や電子デバイスの研究開発を行うためには、電子材料の組成や構造、および物性の評価技術が重要である。
本講では、電子材料の評価に不可欠な測定機器の原理や特徴を学び、これらを使った分析法を修得することを目的とする。
授業の進め方・方法:
教科書やプリントを使用しながら解説する。ＦＥ－ＳＥＭとＸＰＳを用いて材料評価を行いレポートにまとめる。
注意点:
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
| 前期 |
| 1stQ |
| 1週 |
評価法の基礎 |
対象とする材料の評価方法についての全体像を把握する。
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| 2週 |
評価法の基礎 |
対象とする材料の評価方法についての全体像を把握する。
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| 3週 |
表面解析／走査型電子顕微鏡（SEM） |
各種顕微鏡の原理と特徴について理解する。
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| 4週 |
表面解析／透過型電子顕微鏡（TEM） |
各種顕微鏡の原理と特徴について理解する。
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| 5週 |
組成解析／オージェマイクロプローブ（AES） |
組成解析のための分析機器の原理と特徴を理解する
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| 6週 |
組成解析／X線光電子分光装置（XPS） |
組成解析のための分析機器の原理と特徴を理解する
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| 7週 |
組成解析／蛍光X線分析装置（XRF） |
分析機器の原理と特徴を理解する
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| 8週 |
構造解析／X線回折装置（XRD）・電子回折装置（LEED） |
分析機器の原理と特徴を理解する
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| 2ndQ |
| 9週 |
構造解析／赤外分光光度計（IR）・ラマン分光光度計（Raman） |
分析機器の原理と特徴を理解する
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| 10週 |
構造解析／紫外可視分光光度計（UV-Vis） |
分析機器の原理と特徴を理解する
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| 11週 |
構造解析／電子スピン共鳴（ESR） |
分析機器の原理と特徴を理解する
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| 12週 |
質量分析／質量分析計（MS、Q-MS）・複合質量分析計（GC‐MS、LC‐MS、ICP－MS） |
質量分析計の原理と特徴について理解し、GCやLCを組み合わせた複合型分析計について理解する。
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| 13週 |
濃度解析／ＩＣＰ分析 |
ＩＣＰ分析の原理と特徴について理解する
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| 14週 |
材料評価実習 |
ＦＥ－ＳＥＭとＸＰＳの操作を体験し材料評価法を理解する
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| 15週 |
レポート作成
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レポートにまとめて考察し理解する
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| 16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
| 分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| レポート | 発表 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
| 総合評価割合 | 100 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 100 |
| 基礎的能力 | 50 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 50 |
| 専門的能力 | 50 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 50 |
| 分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |