| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
到達目標
項目1 | シーケンス制御におけるPLCの取扱い方を体得する。 | シーケンス制御におけるPLCの取扱い方を知っている。 | シーケンス制御におけるPLCの取扱い方を知らない。 |
到達目標
項目2 | PLCを用いたシーケンス制御による制御系設計を体得する。 | PLCを用いたシーケンス制御による制御系設計を知っている。 | PLCを用いたシーケンス制御による制御系設計を知らない。 |
到達目標
項目3 | 倒立振子系に対するLQ最適制御の制御系設計を体得する。 | 倒立振子系に対するLQ最適制御の制御系設計を知っている。 | 倒立振子系に対するLQ最適制御の制御系設計を知らない。 |
到達目標
項目4 | 磁気浮上系に対するPID制御の制御系設計を体得する。 | 磁気浮上系に対するPID制御の制御系設計を知っている。 | 磁気浮上系に対するPID制御の制御系設計を知らない。 |
到達目標
項目5 | 進行波現象を理解し,サージの反射・透過について体得する。 | 進行波現象を理解し,サージの反射・透過について知っている。 | 進行波現象を理解し,サージの反射・透過について知らない。 |
到達目標
項目6 | 電力円線図を理解し,定電圧送電の概念を体得する。 | 電力円線図を理解し,定電圧送電の概念を知っている。 | 電力円線図を理解し,定電圧送電の概念を知らない。 |
到達目標
項目7 | レーザーを使って光の基礎的性質である干渉,回折等の現象を体得する。 | レーザーを使って光の基礎的性質である干渉,回折等の現象を知っている。 | レーザーを使って光の基礎的性質である干渉,回折等の現象を知らない。 |
到達目標
項目8 | 真空装置の取扱い方を習得し,蒸着による薄膜作製を体得する。 | 真空装置の取扱い方を習得し,蒸着による薄膜作製を知っている。 | 真空装置の取扱い方を習得し,蒸着による薄膜作製を知らない。 |
到達目標
項目9 | 分布定数回路の現象が理解でき,測定器が取扱える。 | 分布定数回路の現象が理解できる。 | 分布定数回路の現象が理解できない。 |
到達目標
項目10 | アクティブフィルタの設計ができ,測定器が取扱える。 | アクティブフィルタの設計ができる。 | アクティブフィルタの設計ができない。 |
到達目標
項目11 | 同期発電機の基本特性が理解できる。 | 同期発電機の基本特性を知っている。 | 同期発電機の基本特性を知らない。 |
到達目標
項目12 | AM・FMの原理を理解し,実験システムを体得・説明できる。 | AM・FMの原理を理解できる。 | AM・FMの原理を理解できない。 |