到達目標
半導体材料の基本事項,半導体素子の基本事項について理解し,紙面などで説明ができることで,学習・教育目標の(D-1)の達成とする.
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
評価項目1 | 半導体と金属,絶縁物のキャリア数の違いについて,エネルギーバンド図およびフェルミの分布関数を用いて説明できる. | 半導体と金属,絶縁物の違いについてエネルギーバンド図を用いて説明できる. | 半導体と金属,絶縁物の違いについて説明できない. |
評価項目2 | ダイオード,バイポーラトランジスタを設計できる. | ダイオード,バイポーラトランジスタの動作を式やエネルギーバンド図を用いて説明できる. | ダイオード,バイポーラトランジスタの動作を説明できない. |
評価項目3 | MOSトランジスタの閾値電圧,ドレイン電流を設計できる. | MOSトランジスタの閾値電圧,ドレイン電流を式やエネルギーバンド図を用いて説明できる. | MOSトランジスタの動作を説明できない. |
学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
半導体材料の電気的性質およびpn接合について学び,半導体デバイスであるダイオード,トランジスタ,FETおよびICの動作について学ぶ.
授業の進め方・方法:
・授業方法は講義を中心とし,演習問題や課題をだす.
・適宜,レポート課題を課すので,期限に遅れず提出すること.
注意点:
<成績評価>試験(60%)およびレポート課題(40%)の合計100点満点で(D-1)を評価し,合計の6割以上を獲得した者を合格とする.
<オフィスアワー>放課後 16:00 ~ 17:00,電気電子工学科棟1F 第1教員室.この時間にとらわれず必要に応じて来室可.
<先修科目・後修科目>先修科目は電子回路Ⅰ,後修科目は電気電子材料,電子工学となる.
<備考>周期律表の見方,原子構造,パウリの排他律および共有結合などの化学の基礎知識があることが望ましい.
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
電子と結晶(1) |
価電子と結晶について説明できる.
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2週 |
電子と結晶(2) |
結晶と結合形式,結晶の単位胞と方位について説明でき る.
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3週 |
エネルギー帯と自由電子(1) |
エネルギー準位について説明できる.
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4週 |
エネルギー帯と自由電子(2) |
エネルギー帯の形成,半導体・金属・絶縁物のエネルギー帯構造の違いについて説明できる.
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5週 |
半導体のキャリヤ(1) |
真性半導体のキャリヤについて説明できる.
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6週 |
半導体のキャリヤ(2) |
外因性半導体のキャリヤ,キャリヤ生成機構を説明できる.
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7週 |
キャリヤ密度とフェルミ準位(1) |
真性キャリヤ密度,真性フェルミ準位について説明できる.
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8週 |
キャリヤ密度とフェルミ準位(2) |
多数キャリヤと少数キャリヤ,外因性半導体のキャリヤ密度とフェルミ準位について説明できる.
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2ndQ |
9週 |
半導体の電気伝導(1) |
ドリフト電流,半導体におけるオームの法則について説明できる.
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10週 |
半導体の電気伝導(2) |
拡散電流,キャリヤ連続の式について説明できる.
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11週 |
pn接合とダイオード(1) |
pn接合ダイオードについて説明できる.
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12週 |
pn接合とダイオード(2) |
pn接合ダイオードの電流の大きさについて説明できる.
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13週 |
pn接合とダイオード(3) |
pn接合ダイオードの実際構造について説明できる.
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14週 |
バイポーラトンラジスタ(1) |
バイポーラトンラジスタの動作原理,IBによるICの制御について説明できる.
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15週 |
理解度の確認 |
これまで学んできた半導体工学を理解し、関係する問題を解く事ができる.
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16週 |
前期末達成度試験 |
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後期 |
3rdQ |
1週 |
バイポーラトンラジスタ(2) |
電流増幅率の決定因子について説明できる.
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2週 |
バイポーラトンラジスタ(3) |
接地形式と増幅利得について説明できる.
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3週 |
バイポーラトンラジスタ(4) |
バイポーラトランジスタの実際動作について説明できる.
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4週 |
金属―半導体接触(1) |
ショットキーバリヤダイオード
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5週 |
金属―半導体接触(2) |
オーミック接触
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6週 |
MISFET(1) |
MIS構造ゲートの動作について説明できる.
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7週 |
MISFET(2) |
反転状態の解析について説明できる.
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8週 |
MISFET(3) |
MISFETの動作原理について説明できる.
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4thQ |
9週 |
MISFET(4) |
MISFETの閾値電圧について説明できる.
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10週 |
MISFET(5) |
MOSFETの実際構造について説明できる.
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11週 |
MISFET(6) |
MOSFETの線形領域について説明できる.
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12週 |
MISFET(7) |
MOSFETの飽和領域について説明できる.
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13週 |
集積回路(1) |
ICの回路構成法について説明できる.
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14週 |
集積回路(2) |
ICの内部構造について説明できる.
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15週 |
理解度の確認 |
これまで学んできた半導体工学を理解し、関係する問題を解く事ができる。
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16週 |
学年末達成度試験 |
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評価割合
| 試験 | 小テスト | 平常点 | レポート | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 38 | 27 | 0 | 35 | 0 | 100 |
配点 | 38 | 27 | 0 | 35 | 0 | 100 |