到達目標
学習目的：技術経営の基本である企業等における研究開発および商品化のプロセス，ならびにその過程で生み出される知的財産の理解を通して，エンジニアの基本的な仕事に取り組む姿勢を学び，将来への準備とする。
到達目標：
１．企業で重要な知的財産について理解する。
２．企業における知的財産を活かした技術経営について理解する。
３．先行特許等調査の実践的なノウハウ・スキルを身に付ける。
ルーブリック
| 優 | 良 | 可 | 不可 |
| 評価項目1 | 企業で重要な知的財産について十分に理解しており，誰にでも分かりやすく説明することができる。 | 企業で重要な知的財産について概ね理解しており，分かりやすく説明することができる。 | 企業で重要な知的財産について理解し，説明することができる。 | 企業で重要な知的財産について理解できない。 |
| 評価項目2 | 企業における知的財産を活かした技術経営について十分に理解しており，誰にでも分かりやすく説明することができる。 | 企業における知的財産を活かした技術経営について概ね理解しており，分かりやすく説明することができる。 | 企業における知的財産を活かした技術経営について理解し，説明することができる。 | 企業における知的財産を活かした技術経営について理解できない。 |
| 評価項目3 | 先行特許等調査の実践的なノウハウ・スキルを十分に身に付けており，専門分野での情報収集等への活用や評価が的確にできる。 | 先行特許等調査の実践的なノウハウ・スキルを概ね身に付けており，専門分野での情報収集等への活用や評価ができる。 | 先行特許等調査の実践的なノウハウ・スキルを身に付けており，専門分野での情報収集等に活用できる。 | 先行特許等調査の実践的なノウハウ・スキルを身に付けていない。 |
学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
一般・専門の別：専門
学習の分野：自然科学系共通・基礎
必修・履修・履修選択・選択の別：履修選択
基礎となる学問分野：社会科学／経営学／経営学
学科学習目標との関連：本科目は情報工学科学習目標「(1) 数学，物理を中心とした自然科学系の科目に関する知識を修得し，情報工学を中心とした技術分野に応用する能力を身につける。」に相当する科目である。
技術者教育プログラムとの関連：主体とする学習・教育目標は「（B）地球的視野に立った人間性の育成，B－１：技術者に必要な広い視野と一般教養を身に付け，技術が社会や自然に及ぼす影響を理解し，説明できること」である。
授業の概要：企業における技術製品開発とその商品化に関し，知的創造サイクルの基礎となる知的財産全般について解説する。なかでも，特許については理論だけでなく，調査手法を含めた実践的な内容に踏み込んで解説する。また，技術経営（ＭＯＴ）について，知的財産を事業に活かすための知的財産マネジメントを中心に，具体例を交えて解説する。
授業の進め方・方法:
授業の方法：教科書に加えて，プリントやパワーポイントを用いることで平易に解説する。また，毎回，２時間分の課題を出して授業時間外の学習を求める。
成績評価方法：試験（３０％），レポート（７０％）。試験時に教科書，講師が配布したプリント，自己作成ノート，電卓の持込は許可する。再試験は実施しない。
注意点:
履修上の注意：本科目は「授業時間外の学習を必修とする科目」である。１単位あたり授業時間として１５単位時間開講するが，これ以外に３０単位時間の学習が必修となる。これらの学習については担当教員の指示に従うこと。
履修のアドバイス：企業経験の豊富な非常勤講師により，社会において技術と経営がどのようにかかわっていくべきかについて，企業戦略，技術経営の視点から解説する。
基礎科目：倫理（１年），政治経済（２）
関連科目：なし
受講上のアドバイス：知的財産と技術経営について，企業等に就職後に活かすことができる実践的な内容を説明するので，興味を持って学習してほしい。
知的財産に関する報道（例えば，職務発明関連報道）があれば，積極的に講義で取り上げて，専門家としての切り口から解説を行う予定である。
遅刻は授業時間半分までとし，遅刻２回で欠課１回として取り扱う。
連絡担当教員：前原・総合理工学科電気電子システム系
授業計画
|
|
週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
| 前期 |
| 1stQ |
| 1週 |
知的財産概論
特許，実用新案，意匠，商標の違い |
|
| 2週 |
特許１回目
特許：主体的要件 |
|
| 3週 |
特許２回目
特許：客体的要件 |
|
| 4週 |
特許３回目
特許：実施権 |
|
| 5週 |
特許４回目
特許，実用新案：先行技術調査 |
|
| 6週 |
特許５回目
特許：侵害の可能性判断 |
|
| 7週 |
実用新案
特許請求の範囲の作成 |
|
| 8週 |
前期中間試験 |
|
| 2ndQ |
| 9週 |
試験返却，意匠１回目
特許明細書の作成 |
|
| 10週 |
意匠２回目
意匠：保護対象 |
|
| 11週 |
商標
商標：三大機能 |
|
| 12週 |
著作権、不正競争防止法
著作権：人格権と財産権 |
|
| 13週 |
技術経営と知的財産
知的財産の活用 |
|
| 14週 |
データベースを用いた検索
具体的検索方法 |
|
| 15週 |
前期末試験 |
|
| 16週 |
試験返却 |
|
モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
| 分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 試験 | 課題 | 合計 |
| 総合評価割合 | 30 | 70 | 100 |
| 基礎的能力 | 0 | 0 | 0 |
| 専門的能力 | 30 | 70 | 100 |
| 分野横断的能力 | 0 | 0 | 0 |