到達目標
1.nmスケール領域における科学技術を、体系的に説明できる。
2.微小マシン(MEMS)技術の原理や特長、デバイスプロセスを説明できる。
3.安全・環境に関わるナノリスクと、その主な対応策を説明できる。
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
評価項目1 | nmスケール領域における科学技術を、体系的に適切に説明できる。 | nmスケール領域における科学技術を、体系的に説明できる。 | nmスケール領域における科学技術を、体系的に説明できない。 |
評価項目2 | 微小マシン(MEMS)技術の原理や特長、デバイスプロセスを適切に説明できる。 | 微小マシン(MEMS)技術の原理や特長、デバイスプロセスを説明できる。 | 微小マシン(MEMS)技術の原理や特長、デバイスプロセスを説明できない。 |
評価項目3 | 安全・環境に関わるナノリスクと、その主な対応策を適切に説明できる。 | 安全・環境に関わるナノリスクと、その主な対応策を説明できる。 | 安全・環境に関わるナノリスクと、その主な対応策を説明できない。 |
学科の到達目標項目との関係
学習・教育到達度目標 本科の学習・教育目標 (HC)
説明
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教育方法等
概要:
ナノテクノロジーに秘められた基本的原理の理解に主眼を置いて学修し、今後の新たな技術開発を主導して行く基礎的応用能力を養うことを目的とする。
本校の教育基盤である「全科目ESD(持続発展教育)」による素養を基に、技術者として実践できる視野を身に付けさせる。
授業の進め方・方法:
授業では、主要なナノテクノロジーを詳細に講義するが、特に機械・電気工学の融合領域に相当する微小マシン(MEMS)関連技術に重点を置くと共に、ナノリスクと称される、nmスケールでの安全環境確保の知識等についても講義する。
プロジェクターを用いて、内容の視覚的な理解が進むように講義する。
注意点:
担当教員が大学院付置研究所と企業研究開発実用化研究所で本務として来た、化学物理・ナノデバイス・プロセスの研究開発実用化事例を教材にした、実学も取り入れて講義します。
また、担当教員が連続応募・採択されて来た「高エネ研(KEK)大学等連携支援事業(先端工学技術開発を志向した高度人材育成支援事業)」で開講した、「先端工学」や「先端工学(修養)特講」で充実を図った電子化教材を一部取り入れ、最先端の工学を教授します。
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
ナノテクノロジーの概要 ナノ物質(概論) |
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2週 |
ナノ構造技術(概論) (MEMS・BiCMOS-SIMOXウェハ実物観照) |
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3週 |
ナノテクノロジー応用(概論) (量子・スピン・光等の応用展開) |
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4週 |
ナノ物質(材料) (グラフェンやフラーレン等、全8項目) |
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5週 |
ナノ物質(材料) (デンドリマー、ナノポーラス材料等、全7項目) |
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6週 |
ナノ物質(材料) (メゾスコピック材料、ナノガラス等、全10項目) |
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7週 |
中間試験 |
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8週 |
中間試験解答説明と補講 |
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2ndQ |
9週 |
ナノ構造技術 (ナノリソグラフィーやナノプロービング、近接場光学等、全9項目) |
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10週 |
ナノ構造技術 (マイクロ・ナノマシンやナノマニピュレータ、ナノシミュレーション等、全10項目) |
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11週 |
ナノテクノロジー応用 (ナノ・分子デバイスや量子ドット、スピントロニクス等、全13項目) |
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12週 |
ナノテクノロジー応用 (ナノフォトニクスやナノバイオテクノロジー等、全13項目) |
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13週 |
ナノテクノロジー応用 (ナノバーコードやナノ光触媒等、全11項目) |
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14週 |
ナノリスクとナノテクノロジーの新展開 期末試験 |
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15週 |
期末試験解答説明と補講 |
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16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 試験 | 発表 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 50 | 0 | 0 | 0 | 0 | 50 | 100 |
基礎的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
専門的能力 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
分野横断的能力 | 50 | 0 | 0 | 0 | 0 | 50 | 100 |