到達目標
"1.知的財産の社会的意義や重要性の観点から,知的財産に関する基本的な事項を説明できる。
2.知的財産の獲得などで必要な新規アイデアを生み出す技法などについて説明できる。"
ルーブリック
| 理想的な到達レベルの目安 | 標準的な到達レベルの目安 | 未到達レベルの目安 |
評価項目1 | 知的財産の社会的意義や重要性の観点から,知的財産に関する基本的な事項を説明できる。
| 知的財産に関する基本的な事項をある程度説明できる。
| 知的財産に関する基本的な事項の説明ができない。
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評価項目2 | 知的財産の獲得などで必要な新規アイデアを生み出す技法などについて説明できる。
| 知的財産の獲得などで必要な新規アイデアを生み出す技法についてある程度説明できる。
| 知的財産の獲得などで必要な新規アイデアを生み出す技法などについて説明できない。
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評価項目3 | | | |
学科の到達目標項目との関係
教育方法等
概要:
"知的財産権制度が何のために創設され,それが社会でどんな昨日や役割を果たしているかを学習することにより,企業
や技術者を守る法律であることを体感させる。更に知的財産活動の基盤であり,製品開発を進める上で「宝の山」であ
る特許情報の重要性や役割を理解するとともに,特許情報の検索方法・活用方法を習得して,創造性の育成や将来モノ
作りや製品開発等に特許情報を有効に活用できるスキルの取得を目指す。
この科目は,実務経験(特許庁審査官・知的財産アドバイザー)を有している,外部招聘した専門家講師が,4年生を対
象に,夏季休業中,特定期間に集中して,講義・実習形式で授業を行う科目である。"
授業の進め方・方法:
"知的財産権の概略を把握するとともに、企業の活動にどのように知的財産権が活かされているかを体感させ、知的財産権の重要性を認識させ、知的財産に対する意識を向上させる。
発明品や商品等の実物で,特許,実用新案,意匠,商標,不正競争防止法等がどのように保護するのか,また保護された場合と保護されなかった場合,市場ではどのようなことが生じるのかを体感させ,もの作りや商品開発において知的財産に対して如何に意識を持つことが大切かを体感させる。 "
注意点:
授業の属性・履修上の区分
授業計画
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週 |
授業内容 |
週ごとの到達目標 |
前期 |
1stQ |
1週 |
知的財産権制度の体系
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知的財産権の体系を理解する。
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2週 |
〃
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〃
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3週 |
特許、実用新案、意匠、商標の各制度の目的と制度の比較
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特許、実用新案、意匠、商標の各制度の相違を把握する。
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4週 |
〃
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〃
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5週 |
〃
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〃
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6週 |
企業活動における知財
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企業における知財の実際の活用および重要性を把握する。
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7週 |
〃
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〃
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8週 |
〃
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〃
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2ndQ |
9週 |
特許法(基本制度)
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特許権制度の概要を理解する。
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10週 |
〃
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〃
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11週 |
特許法(権利化、活用)
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特許権の取得と活用を理解する。
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12週 |
〃
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〃
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13週 |
実用新案法
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実用新案制度の概要、特許制度との違いを理解する。
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14週 |
意匠法
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意匠権制度の概要と活用法を理解する。
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15週 |
〃
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〃
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16週 |
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後期 |
3rdQ |
1週 |
商標権
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商標権制度の概要と活用法を理解する。
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2週 |
〃
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〃
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3週 |
著作権法
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著作権制度の概要を理解し、著作物の利用について理解する。
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4週 |
〃
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〃
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5週 |
不正競争防止法
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不正競争防止法の概要を理解する。
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6週 |
〃
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〃
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7週 |
外国出願制度(パリ条約)
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外国出願制度の基礎となるパリ条約について理解する。
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8週 |
〃
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〃
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4thQ |
9週 |
外国出願制度(PCT出願等)
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外国出願制度の概要と権利化について理解する。
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10週 |
〃
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〃
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11週 |
知的財産の活用演習(特許)
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事例に基づいて特許情報の取得方法および特許の活用を理解する。
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12週 |
〃
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〃
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13週 |
〃
|
〃
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14週 |
知的財産の活用演習(意匠、商標、著作権)
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事例に基づいて意匠、商標、著作権の活用を理解する。
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15週 |
〃
|
〃
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16週 |
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モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標
分類 | 分野 | 学習内容 | 学習内容の到達目標 | 到達レベル | 授業週 |
評価割合
| 試験 | 発表 | 相互評価 | 態度 | ポートフォリオ | その他 | 合計 |
総合評価割合 | 60 | 0 | 0 | 20 | 20 | 0 | 100 |
| 60 | 0 | 0 | 20 | 20 | 0 | 100 |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |