知的財産論

科目基礎情報

学校 大分工業高等専門学校 開講年度 2018
授業科目 知的財産論
科目番号 30AES210 科目区分 専門 / 選択
授業形態 授業 単位の種別と単位数 学修単位: 2
開設学科 専攻科電気電子情報工学専攻 対象学年 専2
開設期 後期 週時間数 後期:2
教科書/教材 (教科書)発明推進協会,「産業財産権標準テキスト(総合編)第4版」/(教科書)発明推進協会,「産業財産権標準テキスト(特許編)第8版」/(参考図書)「知っておきたい特許法」,大蔵省印刷局発行
担当教員 安倍 逸郎,丹生 哲治

到達目標

(1)知的財産権の法体系上の位置づけ,その意味を理解できる.(定期試験)
(2)特許制度の概要を知り,明細書等の作成が模擬的にできる.(定期試験)
(3)実用新制度・商標制度・意匠制度の概要を知る.(定期試験)
(4)その他の関連法,不正競争防止法,著作権法の概要を知る.(定期試験)

ルーブリック

理想的な到達レベルの目安標準的な到達レベルの目安未到達レベルの目安
評価項目1知的財産権の法体系上の位置づけ,その意味を十分に理解できる知的財産権の法体系上の位置づけ,その意味を理解できる知的財産権の法体系上の位置づけ,その意味を理解できない
評価項目2特許制度の概要を十分に知り,明細書等の作成ができる特許制度の概要を知り,明細書等の作成が模擬的にできる特許制度の概要を知ること,明細書等の作成ができない
評価項目3実用新制度・商標制度・意匠制度の概要を知り,十分に理解できる実用新制度・商標制度・意匠制度の概要を知り,理解できる実用新制度・商標制度・意匠制度の概要を理解できない
評価項目4その他の関連法,不正競争防止法,著作権法の概要を知り,十分に理解できるその他の関連法,不正競争防止法,著作権法の概要を知り,理解できるその他の関連法,不正競争防止法,著作権法の概要を理解できない

学科の到達目標項目との関係

学習・教育到達度目標 (E2) 説明 閉じる
JABEE 1(2)(d)(1) 説明 閉じる

教育方法等

概要:
グローバライズされた現在の日本では,企業におきて技術開発に従事する者に限らず,何らかの社会活動を行う人々にとって,知的財産についての知識は必須となっています.特に専攻科性にとっては,産業財産権法と呼ばれる4法(特許法,実用新案法,意匠法,商標法)について,これらを自在に駆使できる能力が必要とされています.また,これに加えて著作権,不正競争防止法など,実際の企業活動の実務において必須となる法律知識を取得する必要があります.そこで,産業財産権法,特に特許法を中心とし,その他の関連法について,現在の企業活動において必要とされる知識を学びます.さらに,研究開発に従事する者が要求される実践的能力の会得を目的とし,単なる教科書的知識ではなく,より実践的な知識,スキルの修得を目指します.
授業の進め方・方法:
教科書に基づいて行うが,適宜,配布資料を準備する.
達成目標の(1)~(4)について,定期試験で評価する.総合評価が60点以上を合格とする.再試験は行わない.
注意点:
インターネットなどで知財に関する記事をチェックし,関心を持つこと.

授業計画

授業内容 週ごとの到達目標
後期
3rdQ
1週 知的財産権とは 知的の概要乃至外延,知財の位置づけについて理解できる.
2週 特許法1 発明と特許について理解できる.
3週 特許法2 特許情報の調査について理解できる.
4週 特許法3 出願書類の書き方について理解できる.
5週 特許法4 出願から登録までについて理解できる.
6週 特許法5 外国での特許取得について理解できる.
7週 実用新案法 実用新案法の概要について理解できる.
8週 特許情報の調査 特許調査の実習により,内容を理解できる.
4thQ
9週 明細書の作成 明細書及び図面の作成実習により,内容を理解できる.
10週 特許請求の範囲の作成 特許請求の範囲の作成実習と検討により,内容を理解できる.
11週 意匠法 意匠法の概要について理解できる.
12週 商標法1 商標制度の目的,保護対象について理解できる.
13週 商標法2 商標登録出願の他続,商標権の効力について理解できる.
14週 著作権と不正競争防止法 著作物とは何か,不正強制防止法の概要について理解できる.
15週 後期期末試験
16週 後期期末試験の解答と解説 分からなかった部分を把握し理解できる.

モデルコアカリキュラムの学習内容と到達目標

分類分野学習内容学習内容の到達目標到達レベル授業週

評価割合

試験発表相互評価態度ポートフォリオその他合計
総合評価割合10000000100
基礎的能力0000000
専門的能力10000000100
分野横断的能力0000000